Improved oxidation behavior of Hf0.11Al0.20B0.69 in comparison to Hf0.28B0.72 magnetron sputtered thin films.
Kümmerl P, Lellig S, Navidi Kashani AH, Hans M, Pöllmann PJ, Löfler L, Nayak GK, Holzapfel DM, Kolozsvári S, Polcik P, Schweizer P, Primetzhofer D, Michler J, Schneider JM.
Kümmerl P, et al. Among authors: nayak gk.
Sci Rep. 2024 Sep 17;14(1):21653. doi: 10.1038/s41598-024-72134-3.
Sci Rep. 2024.
PMID: 39289363
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